企业等级: | 普通会员 |
经营模式: | 生产加工 |
所在地区: | 江苏 苏州 |
联系卖家: | 孟先生 先生 |
手机号码: | 15190025037 |
公司官网: | www.0512zxy.com |
公司地址: | 苏州市吴中区国家环保产业园 |
发布时间:2020-07-10 03:08:17
硅片切割片、研磨片、抛光片清洗过程。
切割片: 准备过程 去除胶粘结剂和石墨 超声波清洗 甩干 结束工作 。
研磨片: 准备工作 粗洗 F浸泡 超声波清洗 甩干 结束工作 。
抛光片: 准备工作 去蜡 送检(一) 清洗 送检(二) 结束工作 。
碱性二氧化硅抛光方法与原理。
碱对硅的腐蚀反应;
胶粒见的吸附作用;
抛光衬垫与硅片的机械摩擦作用;
碱的络合作用。
硅基片的醛基化解决
倒掉反映液體,回收无边框电池片,用无水乙醇清理3次,以去除羟基***;再用掉离子水清理3次,以去除无水乙醇,以防止其与醛基反映;举例来说,如果一个光伏阵列是6块组件,如果其中一块组件的部分因为遮挡产生了阴影,这6块组件的发电量都会受到影响。随后用PBS溶液清洗2次,以产生PBS自然环境,倒掉PBS溶液,将硅片亮脸朝上,添加和PBS的混和溶液(15mlPBS,1.5ml50%,容积之比1:10),选矿摇床振摇反映1h。此反映完毕后可让硅基片产生醛基化。倒掉反映液體,用PBS清理3次,荆州电池片,随后将醛基化的硅片储存于PBS溶液中,于己下一步试验应用。
工艺实现
为实现利用湿法刻蚀在硅片加工出刻,硅腐蚀。V 形槽条纹这一目标,需要三步工艺:氧化,光图 1 硅单晶晶体结构。
在本文中用( 100)双面抛光硅片来叙述,回收晶体硅电池片,图 2 中 V 型槽的两个斜面为 (111)晶面,底面为(100)晶面。由晶体结构计算斜面( 111)与地面( 100)夹角 54.736°。当腐蚀的时候,从( 100)硅片上沿着( 110)方向腐蚀时掉需要腐蚀的硅原子,从而暴露出倾角为 54.736°的( 111)面,双面进行就会形成 V 型槽结构。由于硅片的腐蚀存在备向异性,硅 (111)晶面的腐蚀速度远小于 (100)面的。因此,回收多晶硅电池片,只要选择适当的腐蚀温度和时间,就能得到如图 2 所示的硅片 V 型槽。将硅单晶体按( 100)方向切成所需大小的硅片。厂家长期现金采购电池片,硅片,多晶硅,单晶硅,硅料,光伏组件,太阳能电池板回收石英的主要成分也是二氧化硅,较纯净的石英可用来制造石英玻璃,我们在实验室中使用的一些耐高温的化学仪器,就是用石英玻璃制成的。
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